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瑞泉反滲透純水設備系統工藝要求及說明
來源：www.lmvntd.org 發布時間：2018年10月11日
瑞泉水處理所有設備均為按客戶實際要求訂做，無現貨，無回收舊設備，所造設備均質保兩年！
反滲透純水設備系統工藝要求及說明:
根據國家標準水質情況、RO進水條件及海德能公司反滲透裝置設計導則，提出以下簡易流程。本工藝由預處理部分、RO反滲透主機脫鹽系統及RO膜清洗系統組成。
原水→原水箱→原水泵→石英砂過濾器→活性炭過濾器→保安過濾器 →高壓泵→反滲透裝置→純水箱→使用點
1、預處理部分工藝說明：
1.1前級增壓系統：
由于系統進水為自來水，外網管路供水由于壓力不夠（受其它用水點的影響），且原水壓力波動很大，(主要受管網用水量高峰期的影響，壓力波動變化量較大)因此在原水進口處設置一臺原水箱及一臺原水增壓泵，原水由原水泵增壓進入過濾器。水壓恒定且大于0.25MPa，保證系統進水能安全工作。
1.2前級預處理系統：
由于自來水的濁度不穩定，并且自來水的濁度隨季節性變化及人工加藥量的因素影響，造成其濁度變化系數較大，因此在前級預處理部分設置一臺石英砂過濾器，以便過濾器過濾去除。
由于原水為自來水,一般自來水管網末端余氯含量約為0.5mg/L,活性炭過濾器在本工藝中主要去除原水中的余氯及部分重金屬離子、有機物，經活性炭過濾器吸附后，水中的余氯去除率為99.9%,出水符合RO進水條件。預處理系統設計產水量≥8m3/h。
2、預處理設備工作參數及選用特點：
2.11、預處理系統部分工藝說明：
2.1原水增壓泵
原水泵用于水壓的提升，以滿足石英砂過濾器和活性碳過濾器的進水供水量及工作壓力。
2.2石英砂，活性炭過濾器：
石英砂，活性炭過濾器設計流速為8～15m/h，過濾器內設各種粒徑的石英砂填料層及101滲銀滅菌型活性炭，由于活性炭內滲銀，微生物的繁殖受到抑制，因活性炭在工藝中主要起吸附水中的有機物、余氯；因其比重較輕，反沖洗強度為0-8L/m2·S，濾料的反洗膨脹率為40～50%，反洗時宜選用低流速反洗，以防止活性炭被反洗水沖走。
在石英砂，活性炭過濾器進出水管道上設有壓力表，可顯示過濾器的運行壓力及進出水的壓差，過濾器的反洗按照進出水壓差來確定(當進出水壓差達到0.1MPa時進行反洗)，由反洗水泵來實行過濾器的反洗，活性炭過濾器濾料（活性炭）更換周期以出水的余氯含量≤0.1PPM及有機物含量CODcr<1.5mg/L，兩項指標確定，出水水質應定期監測。
2.3保安過濾器：
保安過濾器選用濾芯精度為5um，在工藝中主要用于截留前置管道、設備中可能泄漏的機械雜質或破裂的樹脂顆粒，確保RO進水的清潔度，以防前級過濾器泄漏的機械雜質進入反滲透膜元件，這種顆粒經高壓泵加速后可能擊穿反滲透膜元件，造成大量鹽份的泄漏，同時可能劃傷高壓泵的葉輪，保安過濾器內的濾元采用聚丙烯噴熔工藝制作，過濾微孔具有：孔形呈錐形結構;過濾效率高，可進入深層過濾;納污容量大，使用壽命長;采用卡式結構，便于快速更換。
保安過濾器的濾芯應定期更換，一般可根據進出水壓差來決定。
保安過濾器進出水管道上均設有壓力表，可顯示保安過濾器的進出水壓力及進出水壓差。
3、反滲透脫鹽系統
一級反滲透裝置在工藝中主要去除水中大部分的陰、陽離子及有機物、熱源和細菌等。反滲透（RO）一級脫鹽系統由RO膜組件、高壓泵、RO清洗裝置等組成。
3.1反滲透裝置
反滲透是一種借助選擇透過（半透過）性膜的功能，以壓力為推動力的膜分離技術膜元件，由反滲透膜導流布和中心管等制作而成，將多根RO元件裝入不銹鋼耐壓殼體內，組成RO組件。本工藝脫鹽系統的關鍵，成熟的工藝設計和合理的操作，控制及管理，直接決定著系統的正常、穩定出水。并關系到反滲透膜的使用壽命，經反滲透處理后的出水，去除了絕大部分無機鹽和幾乎所有的有機物，微生物（細菌、熱源等）從而確保了本系統產品水的高質量、高品質。
完成預處理后的出水其出水由淤積密度指數SDI測試儀監測，當SDI值<4時，即可進入RO系統，由高壓泵增壓后進入反滲透系統（RO），反滲透出水（脫鹽純水）去中間水箱，另一部分由管道匯集后成濃水（主要含鹽份、機械雜質、膠體、有機物等）隨小部分未透過水排入下水道。反滲透主體設備選用美國HYDRANAUTICS公司生產的高脫鹽率低壓CPA3-8040超低壓件。該膜元件屬節能型低壓膜，是世界上最先進的卷式RO膜元件，具有結構緊湊，產水量特別大（單支RO膜產水量可達1.2t/h），脫鹽率高（單支膜試驗數據>99.7%），操作壓力低，耐細菌侵蝕性好，適用PH范圍廣（PH為3~10）的優點。
反滲透配套控制系統功能：
設備配制工作儀表及監視儀表：
顯示系統的運行工況（RO出水電導率、高壓泵的開關、進出水流量、壓力等參數）；
反滲透高壓泵進口設低壓保護器，當高壓泵進水壓力<0.1Mpa時，高壓泵自動停止工作。
反滲透高壓泵出口設高壓傳感器，當工作壓力大于某一設定值，高壓泵停止運行，以防損壞后級管道及膜元件。
進水、濃水、淡水閥：主要調節RO進水量、產水量、進水壓力、濃水壓力及回收率。
電導儀：電導儀用于監測RO進出水電導率的變化情況，溫度表顯示RO膜在不同溫度下產水量的變化。
高壓泵：增壓滿足RO膜元件進水壓力要求。
液位自控：主要用于防止停水情況下，高壓泵繼續運行而使高壓泵損壞，另一作用是如中間水箱高位時，可使RO停止運行，防止純水箱溢流。
3.2反滲透清洗系統
清洗裝置由清洗水箱等組裝而成，用以滿足反滲透裝置的循環清洗及藥劑的過濾，滿足反滲透裝置一次清洗用的藥劑量。
4、電氣控制柜的功能及系統儀表
本系統采用RO-PLC集成電路控制方式，設備運行（泵的起停）、監視（出水電導、流量、壓力等）都具有清晰的指示，顯示運行參數及水質變化情況，并且在非正常情況下實現自動報警。
一. 系統液位與各工作水泵可實行連鎖保護，有利于設備安全運行。
4.1前級過濾器(石英砂過濾器及活性炭過濾器)的運行：
原水泵出口設有流量計，前級過濾器的進水流量按手動設定值運行。
4.2反滲透裝置的自動運行及保護：
1)一級反滲透高壓泵進水設低壓保護器，開關量的壓力信號輸入控制系統，當壓力小于0.05-0.1MPa時，高壓泵自動停止運行，系統自動報警。
2)高壓泵出口設高壓保護器,開關量的壓力信號輸入控制系統，當壓力大于某一設定值時，高壓泵自動停止，系統自動報警。
3)高、低壓保護器設定的壓力可根據實際需要手動設定。
4)反滲透濃水側設一自動沖洗電磁閥，設定時間進行沖洗，用于系統的定期快沖洗。
c、其它功能：
1）進水、濃水、淡水閥：主要調節RO進水量、產水量、進水壓力、濃水壓力及回收率。
2）電導儀：電導儀用于監測RO進、出水電導率及顯示RO膜在不同溫度下產水量的變化。
3）高壓泵：增壓滿足RO膜元件進水壓力要求。
應用領域和指標要求參考
Reference of applications areas and indexes required
用途Applications
用水指標Water Indicators
參考標準Reference standard
單晶硅、多晶硅、太陽能電池、氧化鋁坩堝、光伏玻璃等生產
Monocrystalline silicon, polycrystalline silicon, solar cells, alumina crucible, photovoltaic glass, and other production
電阻率15 ~18.25 Mω.CM
Resitivity 15 ~18.25 Mω.CM
我國電子級水質技術指標，GB11446-1-1997
The water quality of China's electronic-grade technical indicators GB11446-1-1997
美國半導體工業用純水指標
The industrial pure water indicators of U.S. semiconductor
單晶硅半導體集成電路塊，顯像管、玻殼、液晶顯示器等制造工業
Monocrystalline silicon semiconductor chips, tubes, glass, liquid crystal displays and other manufacturing industries
電阻率15 ~18.25 Mω.CM
Resitivity 15 ~18.25 Mω.CM
美國半導體工業用純水指標
The industrial pure water indicators of U.S. semiconductor
我國電子級水質技術指標，GB11446-1-1997
Chinese electronic-grade water quality technical specifications GB11446-1-1997
光學材料清洗用水、電子陶瓷行業用純水、尖端磁性材料用純水
Pure water for optical materials, electronic ceramics and cutting-edge magnetic materials
電阻率 10 ~17 Mω.CM
Resitivity 10 ~17 Mω.CM
我國電子級水質技術指標，GB11446-1-1997
Chinese electronic-grade water quality technical specifications GB11446-1-1997
美國半導體工業用純水指標
The industrial pure water indicators of U.S. semiconductor
蓄電池、鋰電池、鋅錳電池生產
Batteries, lithium batteries, zinc-manganese battery production
電阻率5 ~10 Mω.CM
Resitivity 5 ~10 Mω.CM
我國電子級水質技術指標，GB11446-1-1997
Chinese electronic-grade water quality technical specifications GB11446-1-1997
有色金屬、貴金屬冶煉用水、納米級新材料生產用水、航空新材料生產用水、ITO導電玻璃制造用水、電子級無塵布生產用水
Pure water for non-ferrous metals, precious metals smelting, nano-scale production of new materials, aviation and production of new materials, ITO conductive glass, production of electronic-grade for dust-free cloth
電阻率15 ~18.25 Mω.CM
Resitivity 15 ~18.25 Mω.CM
我國電子級水質技術指標，GB11446-1-1997
Chinese electronic-grade water quality technical specifications GB11446-1-1997
美國半導體工業用純水指標
The industrial pure water indicators of U.S. semiconductor
主要工藝流程和出水指標：
Main technical process and standard of output water
※ 預處理+反滲透+離子交換器（電阻率≥5-15Mω.CM）
Pre-treatment+ stage reverse osmosis system+ion exchange (electric conductivity≥5-15Mω.CM）
※ 預處理+二級反滲透+EDI（電阻率≥15Mω.CM）
Pre-treatment+ stage reverse osmosis system+EDI (electric conductivity≥15Mω.CM）
※ 預處理+二級反滲透+脫氣膜+EDI +拋光混床（電阻率≥18.25Mω.CM）
Pre-treatment+ double stage reverse osmosis system+air film+EDI +polishing mixed bed (electric conductivity≥18.25Mω.CM）
詳細工藝需根據原水設計情況進行設計
Details of the design process should be carried out according to the feed water quality.
純水設備的主要特點
Main technics of pure water treatment equipment
★結合電子工業用水連續生產的特性，采用了全膜法處理工藝（UF+RO+EDI）完成高純水的制備工作；
The electronics industry with the characteristics of continuous production of water, using the entire membrane treatment process (UF + RO + EDI) to complete the preparation of highly pure water work;
★對于電子行業用水的特性，增強了對水中二氧化硅、重金屬和有機碳的脫除；
For the water features of electronics industry , enhanced to removal silica, heavy metals and organic carbon in water.
★采用了氮封水箱解決了電子工業用水要求較高，水的儲存及容易被污染問題；
Using nitrogen sealed water tanks to solve the problems of electronics industry require a higher water use, water storage easy to pollution ;
★采用原裝進口反滲透膜，脫鹽率高，使用壽命長，運行成本低廉，產水水質高而穩定；
Adopted import reverse osmosis membranes, desalination rate is high, long service life, the operation cost is low, the output water quality is high and stable.
★在線水質監測控制，實時監測水質變化，保障水質安全；
On-line water quality monitoring and control, real-time monitoring of water quality to ensure safety of water quality.
★全自動電控程序，還可選配觸摸屏操作，使用方便，操作簡單、安全；
Automatic control procedure, also equipment with touch screen operation, easy to use, the operation is simple, safe.
★依據當地水質的人性化設計，設想周到的堆疊式設計，占地面積小，全方位滿足需求。
Correspond with the local water personalized design, considerate stackable design, small floor area, which can meet considerate needs.
★運行費用及維護成本低，全自動運行，實現無人化管理操作。
Operating costs and maintenance cost low, automatic operation, can realize unmanned management operations.
反滲透純水設備系統工藝要求及說明:
根據國家標準水質情況、RO進水條件及海德能公司反滲透裝置設計導則，提出以下簡易流程。本工藝由預處理部分、RO反滲透主機脫鹽系統及RO膜清洗系統組成。
1、預處理部分工藝說明：
1.1前級增壓系統：
由于系統進水為自來水，外網管路供水由于壓力不夠（受其它用水點的影響），且原水壓力波動很大，(主要受管網用水量高峰期的影響，壓力波動變化量較大)因此在原水進口處設置一臺原水箱及一臺原水增壓泵，原水由原水泵增壓進入過濾器。水壓恒定且大于0.25MPa，保證系統進水能安全工作。
1.2前級預處理系統：
由于自來水的濁度不穩定，并且自來水的濁度隨季節性變化及人工加藥量的因素影響，造成其濁度變化系數較大，因此在前級預處理部分設置一臺石英砂過濾器，以便過濾器過濾去除。
由于原水為自來水,一般自來水管網末端余氯含量約為0.5mg/L,活性炭過濾器在本工藝中主要去除原水中的余氯及部分重金屬離子、有機物，經活性炭過濾器吸附后，水中的余氯去除率為99.9%,出水符合RO進水條件。預處理系統設計產水量≥8m3/h。
2、預處理設備工作參數及選用特點：
2.11、預處理系統部分工藝說明：
2.1原水增壓泵
原水泵用于水壓的提升，以滿足石英砂過濾器和活性碳過濾器的進水供水量及工作壓力。
2.2石英砂，活性炭過濾器：
石英砂，活性炭過濾器設計流速為8～15m/h，過濾器內設各種粒徑的石英砂填料層及101滲銀滅菌型活性炭，由于活性炭內滲銀，微生物的繁殖受到抑制，因活性炭在工藝中主要起吸附水中的有機物、余氯；因其比重較輕，反沖洗強度為0-8L/m2·S，濾料的反洗膨脹率為40～50%，反洗時宜選用低流速反洗，以防止活性炭被反洗水沖走。
在石英砂，活性炭過濾器進出水管道上設有壓力表，可顯示過濾器的運行壓力及進出水的壓差，過濾器的反洗按照進出水壓差來確定(當進出水壓差達到0.1MPa時進行反洗)，由反洗水泵來實行過濾器的反洗，活性炭過濾器濾料（活性炭）更換周期以出水的余氯含量≤0.1PPM及有機物含量CODcr<1.5mg/L，兩項指標確定，出水水質應定期監測。
2.3保安過濾器：
保安過濾器選用濾芯精度為5um，在工藝中主要用于截留前置管道、設備中可能泄漏的機械雜質或破裂的樹脂顆粒，確保RO進水的清潔度，以防前級過濾器泄漏的機械雜質進入反滲透膜元件，這種顆粒經高壓泵加速后可能擊穿反滲透膜元件，造成大量鹽份的泄漏，同時可能劃傷高壓泵的葉輪，保安過濾器內的濾元采用聚丙烯噴熔工藝制作，過濾微孔具有：孔形呈錐形結構;過濾效率高，可進入深層過濾;納污容量大，使用壽命長;采用卡式結構，便于快速更換。
保安過濾器的濾芯應定期更換，一般可根據進出水壓差來決定。
保安過濾器進出水管道上均設有壓力表，可顯示保安過濾器的進出水壓力及進出水壓差。
3、反滲透脫鹽系統
一級反滲透裝置在工藝中主要去除水中大部分的陰、陽離子及有機物、熱源和細菌等。反滲透（RO）一級脫鹽系統由RO膜組件、高壓泵、RO清洗裝置等組成。
3.1反滲透裝置
反滲透是一種借助選擇透過（半透過）性膜的功能，以壓力為推動力的膜分離技術膜元件，由反滲透膜導流布和中心管等制作而成，將多根RO元件裝入不銹鋼耐壓殼體內，組成RO組件。本工藝脫鹽系統的關鍵，成熟的工藝設計和合理的操作，控制及管理，直接決定著系統的正常、穩定出水。并關系到反滲透膜的使用壽命，經反滲透處理后的出水，去除了絕大部分無機鹽和幾乎所有的有機物，微生物（細菌、熱源等）從而確保了本系統產品水的高質量、高品質。
完成預處理后的出水其出水由淤積密度指數SDI測試儀監測，當SDI值<4時，即可進入RO系統，由高壓泵增壓后進入反滲透系統（RO），反滲透出水（脫鹽純水）去中間水箱，另一部分由管道匯集后成濃水（主要含鹽份、機械雜質、膠體、有機物等）隨小部分未透過水排入下水道。反滲透主體設備選用美國HYDRANAUTICS公司生產的高脫鹽率低壓CPA3-8040超低壓件。該膜元件屬節能型低壓膜，是世界上最先進的卷式RO膜元件，具有結構緊湊，產水量特別大（單支RO膜產水量可達1.2t/h），脫鹽率高（單支膜試驗數據>99.7%），操作壓力低，耐細菌侵蝕性好，適用PH范圍廣（PH為3~10）的優點。
反滲透配套控制系統功能：
設備配制工作儀表及監視儀表：
顯示系統的運行工況（RO出水電導率、高壓泵的開關、進出水流量、壓力等參數）；
反滲透高壓泵進口設低壓保護器，當高壓泵進水壓力<0.1Mpa時，高壓泵自動停止工作。
反滲透高壓泵出口設高壓傳感器，當工作壓力大于某一設定值，高壓泵停止運行，以防損壞后級管道及膜元件。
進水、濃水、淡水閥：主要調節RO進水量、產水量、進水壓力、濃水壓力及回收率。
電導儀：電導儀用于監測RO進出水電導率的變化情況，溫度表顯示RO膜在不同溫度下產水量的變化。
高壓泵：增壓滿足RO膜元件進水壓力要求。
液位自控：主要用于防止停水情況下，高壓泵繼續運行而使高壓泵損壞，另一作用是如中間水箱高位時，可使RO停止運行，防止純水箱溢流。
3.2反滲透清洗系統
清洗裝置由清洗水箱等組裝而成，用以滿足反滲透裝置的循環清洗及藥劑的過濾，滿足反滲透裝置一次清洗用的藥劑量。
4、電氣控制柜的功能及系統儀表
本系統采用RO-PLC集成電路控制方式，設備運行（泵的起停）、監視（出水電導、流量、壓力等）都具有清晰的指示，顯示運行參數及水質變化情況，并且在非正常情況下實現自動報警。
一. 系統液位與各工作水泵可實行連鎖保護，有利于設備安全運行。
4.1前級過濾器(石英砂過濾器及活性炭過濾器)的運行：
原水泵出口設有流量計，前級過濾器的進水流量按手動設定值運行。
4.2反滲透裝置的自動運行及保護：
1)一級反滲透高壓泵進水設低壓保護器，開關量的壓力信號輸入控制系統，當壓力小于0.05-0.1MPa時，高壓泵自動停止運行，系統自動報警。
2)高壓泵出口設高壓保護器,開關量的壓力信號輸入控制系統，當壓力大于某一設定值時，高壓泵自動停止，系統自動報警。
3)高、低壓保護器設定的壓力可根據實際需要手動設定。
4)反滲透濃水側設一自動沖洗電磁閥，設定時間進行沖洗，用于系統的定期快沖洗。
c、其它功能：
1）進水、濃水、淡水閥：主要調節RO進水量、產水量、進水壓力、濃水壓力及回收率。
2）電導儀：電導儀用于監測RO進、出水電導率及顯示RO膜在不同溫度下產水量的變化。
3）高壓泵：增壓滿足RO膜元件進水壓力要求。
應用領域和指標要求參考
Reference of applications areas and indexes required
用途Applications
用水指標Water Indicators
參考標準Reference standard
單晶硅、多晶硅、太陽能電池、氧化鋁坩堝、光伏玻璃等生產
Monocrystalline silicon, polycrystalline silicon, solar cells, alumina crucible, photovoltaic glass, and other production
電阻率15 ~18.25 Mω.CM
Resitivity 15 ~18.25 Mω.CM
我國電子級水質技術指標，GB11446-1-1997
The water quality of China's electronic-grade technical indicators GB11446-1-1997
美國半導體工業用純水指標
The industrial pure water indicators of U.S. semiconductor
單晶硅半導體集成電路塊，顯像管、玻殼、液晶顯示器等制造工業
Monocrystalline silicon semiconductor chips, tubes, glass, liquid crystal displays and other manufacturing industries
電阻率15 ~18.25 Mω.CM
Resitivity 15 ~18.25 Mω.CM
美國半導體工業用純水指標
The industrial pure water indicators of U.S. semiconductor
我國電子級水質技術指標，GB11446-1-1997
Chinese electronic-grade water quality technical specifications GB11446-1-1997
光學材料清洗用水、電子陶瓷行業用純水、尖端磁性材料用純水
Pure water for optical materials, electronic ceramics and cutting-edge magnetic materials
電阻率 10 ~17 Mω.CM
Resitivity 10 ~17 Mω.CM
我國電子級水質技術指標，GB11446-1-1997
Chinese electronic-grade water quality technical specifications GB11446-1-1997
美國半導體工業用純水指標
The industrial pure water indicators of U.S. semiconductor
蓄電池、鋰電池、鋅錳電池生產
Batteries, lithium batteries, zinc-manganese battery production
電阻率5 ~10 Mω.CM
Resitivity 5 ~10 Mω.CM
我國電子級水質技術指標，GB11446-1-1997
Chinese electronic-grade water quality technical specifications GB11446-1-1997
有色金屬、貴金屬冶煉用水、納米級新材料生產用水、航空新材料生產用水、ITO導電玻璃制造用水、電子級無塵布生產用水
Pure water for non-ferrous metals, precious metals smelting, nano-scale production of new materials, aviation and production of new materials, ITO conductive glass, production of electronic-grade for dust-free cloth
電阻率15 ~18.25 Mω.CM
Resitivity 15 ~18.25 Mω.CM
我國電子級水質技術指標，GB11446-1-1997
Chinese electronic-grade water quality technical specifications GB11446-1-1997
美國半導體工業用純水指標
The industrial pure water indicators of U.S. semiconductor
主要工藝流程和出水指標：
Main technical process and standard of output water
※ 預處理+反滲透+離子交換器（電阻率≥5-15Mω.CM）
Pre-treatment+ stage reverse osmosis system+ion exchange (electric conductivity≥5-15Mω.CM）
※ 預處理+二級反滲透+EDI（電阻率≥15Mω.CM）
Pre-treatment+ stage reverse osmosis system+EDI (electric conductivity≥15Mω.CM）
※ 預處理+二級反滲透+脫氣膜+EDI +拋光混床（電阻率≥18.25Mω.CM）
Pre-treatment+ double stage reverse osmosis system+air film+EDI +polishing mixed bed (electric conductivity≥18.25Mω.CM）
詳細工藝需根據原水設計情況進行設計
Details of the design process should be carried out according to the feed water quality.
純水設備的主要特點
Main technics of pure water treatment equipment
★結合電子工業用水連續生產的特性，采用了全膜法處理工藝（UF+RO+EDI）完成高純水的制備工作；
The electronics industry with the characteristics of continuous production of water, using the entire membrane treatment process (UF + RO + EDI) to complete the preparation of highly pure water work;
★對于電子行業用水的特性，增強了對水中二氧化硅、重金屬和有機碳的脫除；
For the water features of electronics industry , enhanced to removal silica, heavy metals and organic carbon in water.
★采用了氮封水箱解決了電子工業用水要求較高，水的儲存及容易被污染問題；
Using nitrogen sealed water tanks to solve the problems of electronics industry require a higher water use, water storage easy to pollution ;
★采用原裝進口反滲透膜，脫鹽率高，使用壽命長，運行成本低廉，產水水質高而穩定；
Adopted import reverse osmosis membranes, desalination rate is high, long service life, the operation cost is low, the output water quality is high and stable.
★在線水質監測控制，實時監測水質變化，保障水質安全；
On-line water quality monitoring and control, real-time monitoring of water quality to ensure safety of water quality.
★全自動電控程序，還可選配觸摸屏操作，使用方便，操作簡單、安全；
Automatic control procedure, also equipment with touch screen operation, easy to use, the operation is simple, safe.
★依據當地水質的人性化設計，設想周到的堆疊式設計，占地面積小，全方位滿足需求。
Correspond with the local water personalized design, considerate stackable design, small floor area, which can meet considerate needs.
★運行費用及維護成本低，全自動運行，實現無人化管理操作。
Operating costs and maintenance cost low, automatic operation, can realize unmanned management operations.
上一條：
優質的超濾水處理設備應該是什么樣的標準
下一條：
沒有了
